Bersaglio speciale al molibdeno

Obiettivi speciali di molibdenosono materiali per sputtering di elevata purezza-progettati specificatamente per applicazioni avanzate di deposizione di film-sottili nei settori dei semiconduttori, dei display, del fotovoltaico e dell'elettronica. Realizzati con materie prime di molibdeno di prima qualità e lavorati mediante tecnologie avanzate di metallurgia delle polveri, forgiatura, laminazione e lavorazione di precisione, i nostri target in molibdeno offrono un'eccellente densità, struttura uniforme dei grani e prestazioni di sputtering superiori. Con un punto di fusione elevato (2623 gradi), eccellente conduttività termica, basso coefficiente di dilatazione termica ed eccezionale resistenza alla corrosione, questi target garantiscono tassi di deposizione stabili, durata prolungata del target e qualità della pellicola costante durante tutto il processo di sputtering. L'elevata purezza e la microstruttura omogenea aiutano a ridurre al minimo la generazione di particelle, a migliorare l'uniformità della pellicola e a migliorare l'efficienza produttiva in ambienti esigenti di rivestimento sotto vuoto.

· purezza

L'elevata purezza è un requisito caratteristico di base per il target speciale di molibdeno. Le prestazioni della pellicola spruzzata migliorano con l'aumentare della purezza del target di molibdeno. La purezza dei normali target di sputtering di molibdeno deve essere almeno del 99,95% (frazione di massa, la stessa di seguito). Tuttavia, poiché le dimensioni dei substrati di vetro nel settore LCD continuano ad aumentare, è necessario estendere la lunghezza dei cavi e ridurre la larghezza delle linee. Al fine di garantire l'uniformità della pellicola e la qualità del cablaggio, anche i requisiti di purezza per gli obiettivi di sputtering di molibdeno sono stati aumentati di conseguenza. Pertanto, a seconda delle dimensioni del substrato di vetro per sputtering e dell'ambiente di utilizzo, la purezza del target di sputtering di molibdeno deve essere pari al 99,99%~99,999% o anche superiore. Il bersaglio dello sputtering al molibdeno funge da sorgente catodica nello sputtering. Le impurità nel solido e l'ossigeno e il vapore acqueo nei pori sono le principali fonti di inquinamento dei film depositati. Inoltre, nell'industria elettronica, gli ioni dei metalli alcalini (Na+.K+) diventano facilmente ioni mobili nello strato isolante, riducendo le prestazioni dei componenti; elementi come l'uranio (U) e il titanio (Ti) possono rilasciare raggi, provocando la rottura morbida del dispositivo; gli ioni di ferro e nichel causeranno perdite nell'interfaccia e un aumento degli elementi di ossigeno. Pertanto, durante il processo di preparazione del target speciale in molibdeno, questi elementi impuri devono essere rigorosamente controllati per ridurre al minimo il loro contenuto nel target.

· Densità

Durante il processo di rivestimento a spruzzo, quando il bersaglio di sputtering meno denso viene bombardato, il gas nei pori interni del bersaglio viene rilasciato improvvisamente, provocando schizzi di particelle o particelle del bersaglio di dimensioni celesti, oppure il materiale della pellicola viene bombardato da elettroni secondari dopo la formazione della pellicola. Le particelle volano via. La presenza di queste particelle degrada la qualità della pellicola. Per ridurre i pori solidi secchi nel materiale target e migliorare le prestazioni della pellicola, è generalmente necessario che il materiale target dello sputtering abbia una densità maggiore. Per i target di sputtering a cono, la loro densità relativa dovrebbe essere superiore al 98%.

· Attacco al bersaglio e al telaio

Il target speciale in molibdeno deve essere collegato al telaio in rame-privo di ossigeno (o alluminio e altri materiali) prima dello sputtering, in modo che il target e il telaio conducano una buona conduttività termica ed elettrica durante il processo di sputtering. Dopo la legatura, deve essere sottoposto a ispezione ad ultrasuoni per garantire che i due non siano combinati del 2%. Solo in questo modo può soddisfare i requisiti della naturale potenza sputtering senza cadere.

·Grandulometria e distribuzione dimensionale

Solitamente i bersagli speciali in molibdeno hanno una struttura policristallina e la dimensione dei grani può variare da micron a millimetri. La ricerca sperimentale mostra che la cadenza di fuoco dei bersagli a grana fine-è più veloce di quella dei bersagli a grana-grossa; e target con differenze di granulometria minori, anche la distribuzione dello spessore del film depositato è più uniforme.

· Orientamento del cristallo

Poiché gli atomi target vengono facilmente spruzzati preferenzialmente lungo la direzione della disposizione esagonale più vicina degli atomi durante lo sputtering, quindi per ottenere la velocità di sputtering più elevata, la velocità di sputtering viene spesso aumentata modificando la struttura cristallina del bersaglio. Anche la direzione cristallografica del target ha una grande influenza sull'uniformità dello spessore del film spruzzato. Pertanto, ottenere una certa struttura target con orientamento cristallino è fondamentale per il processo di sputtering a film sottile.

Linea guida:

GB/T3876-83, GB/T14592-93, QJ/BHZ02.68-89

Display a schermo piatto (FPD)

Ideale per cablaggi, elettrodi di linea a matrice e strati barriera negli schermi TFT-LCD e OLED. In passato, i materiali di cablaggio dei display a schermo piatto erano principalmente emorroidi, ma man mano che i display a schermo piatto diventano più grandi e più precisi, sono sempre più necessari materiali con impedenza specifica inferiore. Inoltre bisogna considerare anche la tutela dell’ambiente. Il molibdeno ha il vantaggio di avere solo la metà dell'impedenza specifica e dello stress della pellicola del cromo e non presenta alcun problema di inquinamento ambientale, quindi è diventato uno dei materiali preferiti per gli obiettivi di sputtering per i display a schermo piatto-.

Semiconduttori e imballaggi microelettronici

Poiché i nodi di produzione di semiconduttori continuano a ridursi, il molibdeno e le sue leghe specializzate (come Mo-Ti e Mo-Nb) vengono sempre più utilizzati come barriere di diffusione, elettrodi di gate, strati metallici di contatto e strati di copertura nei circuiti integrati (IC), dispositivi a semiconduttore di potenza e MEMS. Posizionato tra i materiali dielettrici e le linee di interconnessione in rame o alluminio, lo strato di molibdeno previene efficacemente la migrazione dannosa degli atomi e le reazioni interfacciali.

Fotovoltaico e celle solari-a film sottile

Il molibdeno funge da strato di elettrodo a contatto posteriore-universalmente accettato nei moduli solari a film sottile-di tipo calcopirite-, in particolare nelle celle al seleniuro di rame-indio-gallio (CIGS) e al tellururo di cadmio (CdTe). Come contatto posteriore, lo strato di molibdeno spruzzato deve formare un contatto ohmico affidabile con lo strato assorbente pur rimanendo chimicamente inerte durante il trattamento aggressivo di selenizzazione o solforazione ad alta-temperatura.

Vetro a bassa-Emissività e rivestimenti funzionali intelligenti

Lo sputtering magnetron in linea su larga scala-utilizza target in lega di molibdeno-niobio (Mo-Nb) e molibdeno-cromo (Mo-Cr) per modulare le caratteristiche termiche e ottiche del moderno vetro architettonico e automobilistico. Nelle pile di vetro a bassa-emissività (bassa-E), lo strato di molibdeno agisce come una barriera vitale di blocco, semina o sacrificio progettata per proteggere lo strato ultrasottile riflettente degli infrarossi-d'argento (Ag) dall'ossidazione durante le severe procedure di tempra e piegatura del vetro ad alta-temperatura.

 

D: Quanto dura il tempo di consegna?

R: I target a disco o rettangolari di dimensioni-standard vengono generalmente spediti entro 2-3 settimane. Le configurazioni personalizzate, i target ruotabili di grandi dimensioni o gli assemblaggi che richiedono l'incollaggio con indio richiedono solitamente 4-5 settimane.

D: Come controlli la purezza e la qualità dei tuoi obiettivi?

R: Gestiamo la qualità partendo dalle polveri delle materie prime. Ogni lotto viene sottoposto a test della composizione chimica e analisi della dimensione del grano. I prodotti finali ricevono un certificato di analisi (COA) completo contenente i risultati dei test sulle impurità GDMS e i rapporti dei test a ultrasuoni (UT) per l'integrità strutturale.

D: Potete fornire target in lega come Mo-Ti o Mo-Nb?

R: Sì. Siamo specializzati in leghe di molibdeno binarie e multi-componenti (ad es. Mo-Ti 50/50 wt%, Mo-Nb 90/10 at%). La nostra tecnologia proprietaria di miscelazione delle polveri impedisce la segregazione delle fasi, garantendo una composizione perfettamente uniforme nell'intero volume target.

D: Puoi fornire un campione?

R: Ovviamente possiamo inviare campioni gratuiti per il test in base alle tue esigenze, devi solo pagare una piccola quantità di spedizione.

D: Qual è il MOQ?

R: Questo prodotto è un prodotto personalizzato, generalmente fornito secondo i disegni. Se desideri testare prima il campione, possiamo, in base alle dimensioni dello stock, disponibile anche 1 pezzo.

D:Che tipo di certificati hai?

R: Possediamo ISO 9001, CE e altro ancora. Contatta direttamente il nostro personale di vendita per ulteriori informazioni.

 

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Dettagli dell'imballaggio: Dopo il test, i prodotti idonei verranno imballati in conformità con l'imballaggio per l'esportazione o con carta morbida all'interno di una cassa di legno all'esterno.

 

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